Um processador de plasma é um dispositivo usado para o processamento de plasma. Sua estrutura consiste nos seguintes componentes principais:
Câmara de descarga: A câmara de descarga é o componente central de um processador de plasma. Ele usa campos elétricos de alta tensão CA ou radiofrequência para causar descargas de gás, formando assim o plasma. A câmara de descarga é normalmente feita de materiais isolantes, como cerâmica ou vidro.
Câmara de trabalho: A Câmara de Trabalho é o local principal para o processamento de materiais. Diferentes efeitos de processamento são alcançados controlando diferentes parâmetros de gás, pressão e potência. A câmara de trabalho é normalmente feita de materiais com boas propriedades de vedação a vácuo, como metal ou cerâmica.
Sistema de evacuação: o sistema de vácuo é usado para extrair o gás da câmara de trabalho para criar um ambiente de vácuo durante o processamento. O sistema de vácuo normalmente consiste em uma bomba de vácuo e sistema de controle relacionado.
Alta - Fonte de alimentação de frequência: o alto - fonte de alimentação de frequência fornece energia ao processador de plasma, ionizando o gás para formar o plasma através de um campo elétrico de frequência- alto. A fonte de alimentação de frequência - alta consiste normalmente em componentes eletrônicos e sistemas de controle relacionados.
Sistema de controle automático: o sistema de controle automático controla todo o processo de processamento de plasma, incluindo configuração de parâmetros, controle de tempo de processamento e monitoramento do nível de vácuo. O sistema de controle automático normalmente consiste em um computador e software de controle relacionado.
Além disso, os processadores de plasma estão equipados com um sistema de fornecimento de gás para fornecer os gases necessários à câmara de descarga. Esse sistema normalmente consiste em um cilindro de gás, um regulador de pressão, um controlador de fluxo e outros componentes.
Em resumo, a estrutura de um processador de plasma inclui a câmara de descarga, uma câmara de trabalho, um sistema de vácuo, uma fonte de alimentação de frequência alta - e um sistema de controle automático. A operação coordenada desses componentes permite que o processador plasmático induza várias reações físicas e químicas na superfície do material, alcançando assim o tratamento desejado.